出所：ロイター通信（11月18日）
– SKハイニックスは、オランダの半導体装置メーカーASMLが開発した最新の露光装置「ハイ（High）NA EUV」の導入を検討中である。
– この計画は、11月14日（現地時間）にオランダ・フェルトホーフェンで開催された「ASML投資者の日2024」の事前録画映像で発表された。
– SKハイニックスの未来技術研究所を担当する副社長、チャ・ソニョンが録画映像を通じて、
出所：ロイター通信（11月18日）
– SKハイニックスは、オランダの半導体装置メーカーASMLが開発した最新の露光装置「ハイ（High）NA EUV」の導入を検討中である。
– この計画は、11月14日（現地時間）にオランダ・フェルトホーフェンで開催された「ASML投資者の日2024」の事前録画映像で発表された。
– SKハイニックスの未来技術研究所を担当する副社長、チャ・ソニョンが録画映像を通じて、
