半導体フォトレジスト素材企業であるサムヤンNCケムは、18日に金融委員会に証券報告書を提出し、コスダック市場への上場に向けた本格的な公開手続きを開始したと発表した。
2008年に設立されたNCケム（旧サムヤンNCケム）は、フォトレジストの主要な構成要素であるポリマーと光酸発生剤を開発・生産している。
特に、半導体フォトレジスト用の核心素材を国内（韓国）で初めて国産化した。フォトレジストは光に反応する感光材料で、
半導体フォトレジスト素材企業であるサムヤンNCケムは、18日に金融委員会に証券報告書を提出し、コスダック市場への上場に向けた本格的な公開手続きを開始したと発表した。
2008年に設立されたNCケム（旧サムヤンNCケム）は、フォトレジストの主要な構成要素であるポリマーと光酸発生剤を開発・生産している。
特に、半導体フォトレジスト用の核心素材を国内（韓国）で初めて国産化した。フォトレジストは光に反応する感光材料で、
