■出所：ＴＨＥ ＥＬＥＣ ２０２３年１２月１２日付
・オランダ企業ＡＳＭＬは０．３３ ＮＡ極紫外線（ＥＵＶ）露光装置「ＮＸＥ：３８００Ｅ」を来年に供給する予定で、０．５５ ＮＡ装置は２０２５年に商用化する予定だ。
・ＡＳＭＬコリアのジョン・ジンハン常務は12日に韓国で開かれた「アドバンストリソグラフィー＆パターニングテックカンファレンス２０２３」（ＴＨＥ ＥＬＥＣ主催）において、「今後１０年間のＥＵＶロードマップ」を公開した。
・ＡＳＭＬは０．３３ ＮＡ装置の生産能力を強化し、２０２３年第３四半期まで２１３台を納品しており、新製品であるＮＸＥ：３８００Ｅは最大２２０枚のウェーハを時間当たりに処理することができる。
・生産性向上のため、ウェーハ処理速度の向上とレーザー照射強度の増加などにより、エネルギー消費量を２０１８年に比べて４２％削減した。
・０．５５ ＮＡ装置は２０２５年に出荷を開始し、現在０．３３ ＮＡ装置を使用しているメーカーはすべて０．５５ ＮＡ装置に切り替えている。
・ＡＳＭＬは研究開発（Ｒ＆Ｄ）用の０．５５ ＮＡ最初の装置「ＥＸＥ：５０００」を供給し、量産用０．５５ ＮＡ装置「ＥＸＥ：５２００Ｂ」は２０２５年から出荷される予定だ。
・ＡＳＭＬはハイＥＶプロセス転換とフォトレジスト（ＰＲ）及びマスクなどを支援するための生態系研究も進行中で、半導体市場が２０３０年までに１兆ドルに成長すると予想し、適時に装置を供給する計画だ。
※ＥＵＶ露光装置は３ｎｍ以上のロジック半導体および１０ｎｍ級ＤＲＡＭ生産に活用される。
