出所：ＴＨＥ ＥＬＥＣ ２０２４年５月１日付
・ＳＫハイニックスは東京エレクトロン（ＴＥＬ）の極低温エッチング装置をテストしている。
・ＴＥＬの新規エッチング装置は、既存の装置に比べて炭素排出量が少なく、速度が速い。
・業界の見通しによると、ＴＥＬの極低温エッチング装置は４００段以上のＮＡＮＤ製品に適用されると予想される。
・ＳＫハイニックスの事案に詳しいある関係者は、ＴＥＬの新装置をまだ導入したわけではなく、（ＳＫからＴＥＬに）ウェハーを送る方式でテスト中だと（同紙に）説明した。
・ＴＥＬの新装置は極低温で高速でエッチングが可能で、酸化物エッチングに使用される。
・この装置を使用すれば、トリプルスタックからシングルまたはダブルスタックに積層を減らすことができると予想される。（その分、工程を減らせる）
・また、他の企業も極低温エッチング装置を検討しているが、これは炭素削減のためにフッ化水素ガスを使用するためである。
・一方、サムスン電子は、ＳＫとは異なり、ＴＥＬの次世代装置をデモバージョンで導入してテストしている。
